Холловские ионные источники предназначены для создания пучков ионов низкой энергии и большой
плотности.
Ток пучка - от 0,3 А до 3 А, энергия ионов в пучке - от 50 эВ до 400 эВ.
Холловские источники применяются в ряде процессов нанотехнологий для ионного ассистирования при осаждении покрытий,
для ионной очистки и т. п.
Принцип действия холловских ионных источников заключается в получении ионов и их ускорении в плазме газового разряда с последующей нейтрализацией пространственного заряда ионного пучка электронами. Ускорение ионов непосредственно в плазме позволяет получать большие ионные токи с малой выходной площади источника. Источники подразделяются по форме выходного сечения пучка.
Кольцевые ионные источники создают осесимметричные ионные пучки с
выходным наружным диаметром от 30 до 90 мм. В качестве катодов-нейтрализаторов используются как полые,
так и накальные катоды, что дает возможность получения пучков инертных и активных газов. Используются
при обработке, как правило, большого числа мишеней (подложек).
Ленточные ионные источники имеют вытянутую выходную форму
пучка с максимальным размером до 150 мм. Предназначены, в частности, для обработки протяженных деталей.
